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半導(dǎo)體設(shè)備10大品牌排行榜【最新名單公布】

更新日期 2025-06-11 評論 反饋 版權(quán)聲明
半導(dǎo)體設(shè)備10大品牌排行榜
數(shù)據(jù)賦能 共話品牌 相信品牌的力量
榜單說明
品牌榜更新時間:2025年06月12日(榜中榜每月更新)
入榜《2025年CNPP半導(dǎo)體設(shè)備十大品牌榜中榜名錄》的有:ASML阿斯麥、AMAT應(yīng)用材料、Lam Research泛林集團(tuán)、Tokyo Electron、KLA科磊、ASMI、SMEE、北方華創(chuàng)、中微AMEC、電科裝備CETC等,半導(dǎo)體設(shè)備10大品牌排行榜由CNPP品牌榜中榜大數(shù)據(jù)「研究院」和CN10排排榜技術(shù)「研究院」通過資料收集整理,并基于大數(shù)據(jù)統(tǒng)計及人為根據(jù)市場和參數(shù)條件變化的分析研究專業(yè)測評而得出,是大數(shù)據(jù)、云計算、數(shù)據(jù)統(tǒng)計真實客觀呈現(xiàn)的結(jié)果,排序不分先后,不是認(rèn)定認(rèn)證、不是競價排名、不是表彰評選、不是評獎評比,旨在褒揚(yáng)優(yōu)秀品牌,展現(xiàn)優(yōu)秀企業(yè)。
半導(dǎo)體設(shè)備10大品牌
行業(yè)推薦品牌
知識點(diǎn)

1、晶圓制備設(shè)備

晶圓制備設(shè)備主要用于將硅片等材料切割成超薄、超光滑的晶圓形狀。常見的晶圓制備設(shè)備包括切割機(jī)、研磨機(jī)、拋光機(jī)等。這些設(shè)備能夠?qū)⒐杵懈畛杀《刃∮?毫米、表面粗糙度小于1納米的超光滑晶圓。

2、光刻設(shè)備

光刻設(shè)備主要用于將芯片上的電路原型轉(zhuǎn)移到晶圓上,形成電路圖案。光刻設(shè)備采用光學(xué)鏡頭將光源發(fā)射的紫外線或者可見光聚焦在硅片表面形成曝光圖案。常見的光刻設(shè)備有投影式光刻機(jī)、接觸式光刻機(jī)等。

3、薄膜制備設(shè)備

薄膜制備設(shè)備主要用于在晶圓表面制備薄膜材料,包括化學(xué)氣相沉積設(shè)備、物理氣相沉積設(shè)備、濺射設(shè)備等。這些設(shè)備能夠在硅片表面制備多種材料,如氧化鋁、氮化硅、金屬等,這些材料作為電路中的絕緣層、電容、金屬導(dǎo)線等。

4、清洗設(shè)備

清洗設(shè)備主要用于將晶圓表面的雜質(zhì)、污染物清除,以確保晶圓表面的干凈度、光滑度。常見的清洗設(shè)備有化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備、濕式清洗設(shè)備等。

5、封裝測試設(shè)備

封裝測試設(shè)備主要用于在半導(dǎo)體芯片制造完成后,對芯片進(jìn)行外圍封裝和成品測試。常見的封裝測試設(shè)備有貼片機(jī)、焊線機(jī)、芯片測試機(jī)等。

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